電鍍硬鉻用單相全波,三相半波和六相硅整流電源進行鍍鉻,鍍鉻層表面分別出現黑、灰、白色。電鍍硬鉻技術采用了PWM調節原理,由于功率限制、二次擊穿和制造工藝復雜,成本相應比較高,后者采用六相晶閘整流器加平滑電抗器,紋波因數小于1%,15000A/12V的整流器電源在平滑電抗器上電壓降至3~4V,損耗比較大。
電鍍硬鉻技術層次鍍鉻對電源的性能要求比較高,特別是紋波因數和穩定精度在鍍鉻工藝控制曲線范圍內,只有保持一定的電流密度精度,才能各鍍鉻層質量的穩定。根據有關的資料和經驗,鍍槽中的溶液在電流密度大于某一值時才起化學反應。一般把紋波因數定在額定功率備件下的電流或電壓的20%時,紋波因數小于5%,要求控制精度為1%。為了電源性能達到上述工藝要求。
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