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鍍鉻工藝過程中如何抑制鉻霧的產生

來源:www.591hxt.com 發表時間:2021-10-16

鍍鉻過程中,由于使用不溶性陽,陰電流效率又很低,致使大量氫氣和氧氣析出,當氣體逸出液面時,帶有大量的鉻酸,形成鉻霧造成嚴重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。
1、浮體法將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上,這些浮體可阻滯鉻霧的逸出,但零件出槽時,操作不方便。另外鉻酸氧化能力很強,對加入的碎塊有浸蝕作用,使分解產物在鍍液中積累,也會影響鍍層質量。
2、加入泡沫抑制劑 泡沫抑制劑是一種表面活性劑,能降低鍍液的表面張力,產生穩定的泡沫層,覆蓋在鍍液表面。一般的表面活性劑在較高溫度和有強氧化劑存在下不穩定,但氟碳型表面活性劑在上述介質中能穩定存在。據報道,已用作鉻霧抑制劑的有多種,其中好的是含有性基團的脂肪長鏈有機化合物,如全氟辛烷基磺酸鈉鹽[-CF3(CF2)6CF2S03Na-]是典型的一種,每升鍍液中加入量為0.2~O.5g/L時,即可達到良好的效果。中國已試制出全氟烷基醚磺酸鉀[CF3(CF2)2n+10(CF2)S03K],簡稱F一53鉻霧抑制劑,在鍍鉻液中的添加量為0.04~0.06g/L。使用時,先將F-53用水調成糊狀,加水稀釋,煮沸溶解靜止片刻,轉入加熱至50~60℃的鍍鉻槽中,不能把不溶的F-53直接倒入鍍槽。

     



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