電流密度對(duì)鍍件鍍層沉積有什么影響
來(lái)源：www.591hxt.com 發(fā)表時(shí)間：2017-09-05
一般來(lái)說(shuō)，在工藝規(guī)定的范圍內(nèi)，陰電流密度的提高，可以導(dǎo)致陰化的增大，從而得到的鍍層結(jié)晶細(xì)致，特別是陰化率大的情況下，效果更為顯著。
但是，電流密度是不能無(wú)限的增大的，當(dāng)超過(guò)某一限度時(shí)，反而會(huì)造成鍍件的棱角、邊緣處形成樹枝狀結(jié)晶，嚴(yán)重的時(shí)候，甚至觸紅線海綿狀沉積，也就是常言的燒焦。
所以，事宜的電流密度范圍的確定，要看鍍液的性質(zhì)、主鹽濃度、鍍液溫度及攪拌等條件而定。
一般說(shuō)來(lái)，隨著主鹽濃度的增加，允許電流密度的上限提高，而且總的電流密度范圍也寬一些。
當(dāng)鍍液的溫度較高或者有攪拌時(shí)，可以使用較高的電流密度。
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